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光氧、等离子

  • 时间:2020-10-31
光氧、等离子29
  
  半导体行业产品清洗用超纯水设备净水处理,我公司设计的超纯水设备采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的二级反渗透+EDI+精混床除盐水处理工艺,确保处理后的超纯水水质确保处理后出水电阻率达到18.2 MΩ.cm。
  半导体行业产品清洗用超纯水设备关键设备及材料均采用主流先进可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本,水利用率高,运行可靠,经济合理。使设备与其它同类产品相比较,具有更高的性价比和设备可靠性。
  我们公司专业生产二级反渗透+EDI+精混床除盐超纯水设备,有多年的生产经验,尤其在电控系统PLC方面在水处理行业技术都是比较成熟,我们也有做过很多各行业的水处理设备,这方面我们有丰富的经验。我们公司做出来的设备质量比同行具有更大的优势,在国内具有市场竟争力。该产品由于具备性能好、价格低于国外同类产品价格、供货及时、售后服务方便快捷等诸多优势。在LED、LCD、半导体、光电光学企业的脱盐水和超纯水装置,得到了业界的广泛赞誉,欢迎广大客户前来参观考察我公司的厂房及超纯水设备工程案例。

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